100台新增产能！国产光刻机工业化新打破

  上海微电子配备有限公司（SMEE）的“先进封装光刻机工业化项目”环境影响评价正式获批

  这意味着我国行将新增100台高端封装光刻机产能，全球半导体工业链格式迎来严重变局。

  光刻机，作为芯片制作的中心设备，其精度直接决议了芯片的功能。长期以来，光刻机范畴被西方企业独占，尤其是前道光刻机技能门槛极高。但是，上海微电子此次在封装光刻机范畴取得了规模化量产的打破，这一效果看似是“第二战场”的成功，实则具有深远的战略意义。

  依据环评文件，上海微电子现有封装光刻机产能仅为19台，而新项目将一次性新增100台光刻机及100台温控设备，产能将暴增5倍，直接跃居全球前列。这将极大地满意长电科技、通富微电等国内封测巨子的设备需求，进一步稳固我国在全球半导体封装商场的位置。

  更为要害的是，上海微电子此次打破的背面是“设备-资料-工艺”铁三角的全面国产化。中心部件如定位光栅、空气过滤体系、精细温控等已完成国产化，形成了一条完好的国产供应链。放逐，技能迭代也在加快推动，上海微电子已交给首台2.5D/3D封装光刻机，直接对标世界最新技能道路。

  在前道光刻机范畴，上海微电子相同取得了明显发展。90nm光刻机已完成安稳量产，满意物联网、轿车芯片等商场需求；28nm滋润式光刻机也已进入实测阶段，选用全球干流的液浸技能。

  光刻机是半导体工业的柱石，谁把握了光刻机技能，谁就把握了数字年代的“氧气阀”。我国每年进口芯片超越4000亿美元，远超石油进口额。因而，完成光刻机的自主研制和出产关于保证国家经济安全和科技自立自强具有严重意义。

  面临ASML等西方企业的专利壁垒，我国企业挑选了一条“农村包围城市”的道路。先攻封装光刻机商场，再逐步向前道光刻机范畴进军。放逐，我国还加强了与世界先进企业的协作与淳厚，引入先进的技能和人才，不断的前进本身的研制才能和技能水平。

  前进的放逐，职业内部清醒地认识到，我国离“光刻机自在”还有必定间隔。28nm滋润式光刻机交给屡次延期，EUV光源技能仍落后ASML至少15年，设备本钱居高不下。

  前行之路虽布满荆棘，但起色已现。上海 “02 专项” 投入超 50 亿元，手握 2141 项专利；华为、中芯世界等企业组成 “国产设备验证联盟”，加快设备商用；人才回流加快，ASML前研制总监加盟上海微电子等事例频现。

  虽然离“光刻机自在”还有必定间隔，但我国半导体职业现已迈出了坚实的一步。跟着方针的继续支撑和工业链的逐步齐备，信任我国企业在光刻机范畴会有更多成果，我国半导体工业定能稳步迈向新高度。